GAA tabanlı SF3E’nin piyasaya sürülmesinden sonra Samsung üretim düğümlerindeki belki de en büyük revizyon, Samsung’un SF1
Samsung Foundry başkan yardımcısı Jeong Gi-Tae, Samsung’un yaklaşan SF1 Bu şirketler nano tabaka tabanlı düğümlerini piyasaya sürdüğünde, Samsung, her yönden geçit transistörleri konusunda önemli bir deneyime sahip olacak ve bu, dökümhane için faydalı olabilir
Samsung, 2022’nin ortalarında SF3E (aynı zamanda 3nm sınıfı her yönüyle geçit kulağı, 3GAE olarak da bilinir) ile her yönüyle geçit (GAA) nano tabaka transistörlerine dayanan bir süreç teknolojisini tanıtan ilk şirket oldu
(İmaj kredisi: Samsung)Samsung ayrıca 2025’te, yalnızca GAA transistörlerine dayanmakla kalmayıp aynı zamanda transistör yoğunluğu ve güç dağıtımı söz konusu olduğunda önemli faydalar sağlayan arka taraf güç dağıtımını da içerecek olan SF2 (2nm sınıfı) üretim sürecini tanıtmayı planlıyor
4 (1 Şirket bu teknolojiyi çeşitli çipler yapmak için kullanıyor ancak düğümün kullanımının, kripto para madenciliği için kullanılanlar gibi küçük çiplerle sınırlı olduğuna inanılıyor Ayrıca, akım akışı üzerinde gelişmiş kontrol, transistörlerin daha az ısı üretmesi anlamına da gelir ve bu da güç verimliliğini artırır Elektrikliraporlar DigiTimes Samsung, 2025 yılında veri merkezi CPU’ları ve GPU’ları göz önünde bulundurularak tasarlanan performansı geliştirilmiş SF3P teknolojisini piyasaya sürmeyi planlıyorTransistör başına nano tabaka sayısını artırmak, sürüş akımını artırarak performansı artırabilir Bu hamle, performans ve güç tüketimi açısından önemli faydalar sağlamayı vaat ediyor Daha fazla nano tabaka, transistörden daha fazla akımın geçmesine olanak tanıyarak anahtarlama yeteneklerini ve çalışma hızını artırır Ayrıca, daha fazla nano tabaka, akım akışının daha iyi kontrol edilmesine yol açabilir, bu da kaçak akımın azaltılmasına yardımcı olabilir ve böylece güç tüketimi azaltılabilir 4 teknolojisinin nano tabaka sayısını üçten dörde çıkararak ek bir nano tabaka kazanacağı 2027’de gerçekleşecek
Hem Intel hem de TSMC, sırasıyla 2024 ve 2025’te 20A ve N2 (2nm sınıfı) işlem teknolojileriyle GAA transistörlerini kullanmaya başlamayı planlıyor